離子鍍膜設(shè)備與工藝
采用等離子體離子刻蝕和離子鍍膜技術(shù)相結(jié)合,在低溫條件下,對(duì)復(fù)合材料表面制備功能涂層。功能涂層具備良好的介電特性,以及優(yōu)異的基體結(jié)合性能。設(shè)備配置陽極層離子源、磁過濾等離子體源和伸縮磁控濺射源等專利技術(shù),可對(duì)長(zhǎng)度超過 3000mm 的產(chǎn)品進(jìn)行功能涂層制備,設(shè)備采用全自動(dòng)控制技術(shù),可實(shí)現(xiàn)工藝和產(chǎn)品生產(chǎn)一鍵式操作。