主要功能：
采用等離子體離子刻蝕和離子鍍膜技術(shù)相結(jié)合，在低溫條件下，對類回轉(zhuǎn)體復(fù)合材料表面制備電磁屏蔽功能涂層。功能涂層具備良好的介電特性，以及優(yōu)異的基體結(jié)合性能。設(shè)備配置陽極層離子源、磁過濾等離子體源和伸縮磁控濺射源等，可對長度超過3000mm的產(chǎn)品進行功能涂層制備，設(shè)備采用全自動控制技術(shù)，可實現(xiàn)工藝和產(chǎn)品生產(chǎn)一鍵式操作。
技術(shù)參數(shù)：
l真空室體：F 2000mm×3870mm
l 極限真空度：≤3×10-4Pa
l 薄膜沉積速率：2μm Al膜小于10小時
l 薄膜厚度公差：≤±15%
l 薄膜沉積溫度：≤120°C
l 工件尺寸：≤ F1600mm×3200mm
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