主要功能：
采用磁控濺射沉積與離子刻蝕相結(jié)合，對(duì)專用復(fù)合材料進(jìn)行內(nèi)表面鍍膜處理，沉積致密金屬涂層。設(shè)備配置4套柱狀磁控濺射源，設(shè)計(jì)有電動(dòng)頂升系統(tǒng)，可以同時(shí)對(duì)4件柱狀管材產(chǎn)品進(jìn)行鍍膜沉積工藝處理，實(shí)現(xiàn)復(fù)合材料內(nèi)表面涂層工藝的小批量加工。
技術(shù)參數(shù)：
真空室：?650×750mm
極限真空：≤2×10-4Pa
沉積速率：≥2μm/h
產(chǎn)品規(guī)格：?145mm×500
產(chǎn)品數(shù)量：4件/爐
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