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兩層型撓性覆銅板離子注入沉積裝備

主要功能:

采用離子注入、離子刻蝕和磁過濾等離子體沉積相結(jié)合,在聚酰亞胺薄膜(PI)表面直接一步法沉積納米級(jí)金屬?gòu)?fù)合層,再進(jìn)行電鍍?cè)龊瘛8层~板厚度可精確控制和調(diào)節(jié),克服了傳統(tǒng)壓合法無法制備超薄撓性覆銅板的缺點(diǎn)。設(shè)備獨(dú)創(chuàng)卷到卷雙腔室連續(xù)卷繞系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了撓性聚酰亞胺薄膜雙面連續(xù)注入沉積功能薄膜。

技術(shù)參數(shù)

技術(shù)參數(shù):

真空室:900×800×1500mm,900×800×2200mm

極限真空度:≤2×10-4Pa

PI薄膜規(guī)格:幅寬514mm,長(zhǎng)度1500m

卷繞速度:0.5-1m/min

沉積速率:3-5nm/min

拉拔結(jié)合力:≥0.8N/mm

地址:成都市雙流區(qū)西航港大道中四段219號(hào)

郵編:610207

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